主要技术指标:
真空室 Φ600㎜×H600㎜ 极限真空8×10-5 Pa。
从抽气、清洗、活化、镀膜、冷却<120min。
单一镀件尺寸 直径×高度 Φ200㎜×H400㎜。
溅射方式一对平面中频磁控溅射靶，一对圆柱中频磁控濺射靶。中频磁控溅射电源功率40KW。
服务项目：
制备多种硬质涂层薄膜，如TiN，TiAlSiN，TiAlCrN等。
存放地点：
物理楼101号。
负责人及联系方式：
张军
手机：13413600311
