主要技术指标:
真空室 Φ200㎜×H300㎜ 极限真空8×10-7 Pa。
衬底圆盘 Φ150㎜，4条气路，可同时进气。
配一套射频电源1000W。
服务项目：
利用金属气源和Ar气制备多种薄膜，如DLC，SiO2等。
存放地点：
物理楼101号。
负责人及联系方式：
谢伟
手机：13822541773
